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混合等离子体涂层沉积设备
厂 商 韩国J&L Tech Co. 型 号 P600 到货日期 2007年12月
技术指标 高等离子体的离化率和高能束; 高的清洗刻蚀速率和薄膜沉积速率; 低温沉积(<150°C),多种基材可选; 大面积生长容易; 高可靠性和稳定性,易维护,低成本。
主要用途 在所需基材上沉积功能性涂层(防腐、耐磨、耐高温氧化、自润滑等各种功能涂层)及装饰涂层(黑色、红色、蓝色等多种颜色)。可以选择的基材为:各种金属基材、塑料基材、陶瓷基材、光学表面等。